设备功能
设备使用角度可调节靶枪，靶枪高度、角度可以调节。通过调节靶枪高度和角度，可以优化溅射均匀性以及台阶覆盖率。
*采用共焦溅射结构，优点：
*小靶枪溅射大工件，2-3英寸靶枪溅射3-4英寸工件。
*共焦溅射特别适合镀制需要台阶覆盖的工件，通过调整角度可调靶枪的倾斜角度，可以调节台阶覆盖率。
*工艺气体从真空室抽气口前部通入靶面，抽气口位于真空室侧部，保证整个真空室内反应气体浓度稳定一致。

二．设备技术指标
1.极限真空：优于3E-5Pa（经烘烤除气后）；
2.抽速测试：从大气抽到工作真空（5E-4Pa）时间少于30分钟；
3.系统漏率：≤2x10-7Pa.l/S(以氦质谱检漏仪测试指标考核）；
4.系统保压：系统抽至高真空后停泵关机保压12小时后真空度小于10Pa;
5.溅射靶枪：可配备2支2英寸靶枪或2支3英寸靶枪；
6.基片加热：衬底最高加热温度500℃，室温至200度精度:±3°C，300度至500度精度:±1.5°C；样品台可加负偏压-800V；
7.溅射尺寸：衬底基片最大4英寸，兼容4英寸、2英寸、Φ45mm、Φ30mm，以及小尺寸方形片（对角线长度小于45mm）。基片旋转速度：5～25rpm连续可调；

8.成膜质量：托盘3英寸范围内均匀性优于±4%；

详细的技术方案，欢迎致电或者微信技术交流：19820651059；